台积电财务长黄仁昭受访时说,因应客户强劲需求,并为抵御来势汹汹的竞争对手,公司决定将在美国亚利桑那州的投资金额加码1000亿美元(1291亿新元),将总投资金额提升至2650亿美元。

综合彭博社和路透社报道,台积电上星期四(7月16日)举行第二季业绩说明会,董事长兼总裁魏哲家宣布,新增的1000亿美元投资将再兴建四座晶圆厂,意味着台积电将在亚利桑那州拥有10座晶圆厂和两座封装厂。

黄仁昭上星期五(17日)受访时说,这么大笔的投资将成为美国史上最大的海外直接投资,但强调何时完成整体投资承诺,将取决于市场状况。台积电目前已有一座晶圆厂投产,另有两座晶圆厂将在2030年前投产,如今还会在亚利桑那州园区增建更多设施。

他说:“我们正尽己所能,在任何可行地点扩产,以支援客户的成长。”

台积电也日渐面对英特尔和马斯克旗下的Terafab所发出的挑战。对此,黄仁昭说,台积电“也想表明,我们无意把任何生意拱手让人”。

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不过,黄仁昭也提出在美扩增投资所面对的挑战。他说,公司也扩张布局的过程中面对市场可供应的建筑工人数量,以及当地所具备的基础设施等物理限制。

黄仁昭重申,虽然台积电正积极美国在扩建工厂,但最新技术仍会先在台湾扩产,因为开发下一代晶片需要研发团队和工厂密切合作。

黄仁昭也坚持公司先前的说法,即暂时还不会使用阿斯麦(ASML)最先进的极紫外光刻系统。这类设备每台价格从3.5亿欧元(5.17亿新元)起跳,不使用的部分原因是成本考量。