据媒体报道，中国已开始生产自主研发的浸没式深紫外光刻机（DUV）。在美国考虑进一步收紧对外国光刻设备向中国出口以及在华维修服务的限制之际，这项技术可能为中国晶片制造商提供关键设备的替代来源。
路透社据美国科技媒体《The Information》报道，国产光刻机设备预计将在今年内交付给中国主要晶片制造商，包括中芯国际、华虹半导体和长鑫存储。知情人士没有透露这家获得国家支持的制造商身份。
报道指出，这类晶片制造关键设备长期以来由荷兰供应商阿斯麦（ASML）主导。这一突破最终可能对阿斯麦在中国市场的地位构成挑战，但国产设备目前在性能和可靠性方面仍有差距，在实现量产前还需进一步测试，因此阿斯麦现阶段仍保持优势。
报道称，中国国产DUV的初期产量将较为有限，预计今年生产约五台DUV光刻机，2027年产量约为20台。
浸没式DUV光刻机用于在硅晶圆上印制电路图形。在相关限制使中国晶片制造商无法获得更为复杂、适用于更先进制程的极紫外光刻机（EUV）后，浸没式DUV成为中国晶片制造商目前能够使用的最先进光刻设备。
2019年，荷兰政府没有续发阿斯麦向中国出口EUV光刻机所需的许可证，相关设备最终没有交付。此后，阿斯麦一直没有向中国客户交付过EUV光刻机。自2023年起，获取最先进浸没式DUV光刻机也受到越来越严格的限制，但较旧或较低端的DUV设备并未全部被禁。
《金融时报》去年9月曾报道，中芯国际测试的国产浸没式DUV光刻机来自上海企业宇量昇。
报道同时指出，宇量昇与深圳国资控股的新凯来存在资本或项目联系，所以外界有时会把它称为“新凯来系”光刻机。该设备当时仍处于测试、调校阶段，目标是在2027年前后具备商业量产条件。
